在我國對半導體材料的要求超出全世界三分之一，19年單是集成化芯片進口額度就超出3000億美元，根據(jù)所述數(shù)據(jù)信息不會太難發(fā)覺，在我國半導體材料市場容量十分大，但為什么中國沒有半導體材料生產(chǎn)商站出去搶占市場？緣故非常簡單，我國芯片產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展比較晚，就硬實力來講，各生產(chǎn)商屬于力不從心。

就算是內(nèi)地技術*秀的中芯，芯片制造加工工藝也不過是滯留在14nm環(huán)節(jié)，并且由于沒有高端光刻機扶持的原因，將來中芯工藝提升總是越來越難。但是，近期上海微電子傳來一個喜訊。據(jù)了解，上海微電子選用紫外線源完成28nm加工工藝，促使國產(chǎn)光刻機技術性邁入重大進展。

要了解現(xiàn)階段*秀的EUV光刻技術還是選用13.5nm光波長技術，而22nm技術則是13.5nm技術性以后，*秀的光刻機技術性。上海微電子也憑此技術跨越眾多日本國光刻機生產(chǎn)商，變成僅次ASML的第二大光刻機企業(yè)。此成效也向全球證實，光刻機技術性強大的并不僅有ASML。

假如上海微電子所研發(fā)的此項技術平穩(wěn)，可以完成規(guī)模生產(chǎn)，那麼對中國芯片加工制造業(yè)的發(fā)展趨勢毫無疑問將具有極大協(xié)助。擁有國產(chǎn)光刻機機器設備，美國就沒法隨便運用封禁芯片加工廠，在我國芯片自力更生能力可能大幅度提高。乃至很有可能，我國搖身一變從芯片進口強國變?yōu)槌隹趶妵?/p>

自然，國產(chǎn)光刻機的興起也并不是一朝一夕，上海微電子現(xiàn)階段僅僅完成了該加工工藝，具體運用怎樣還需進一步明確。并且，就算*上海微電子取得成功造出22nm光刻機，但還要認知到，在我國高端光刻機品質(zhì)與ASML光刻技術品質(zhì)對比，依然擁有很大差別。

到了現(xiàn)在，就越發(fā)覺光刻機技術要求越來越高，要想在更多方面完成技術提升，便會越來越艱難。自然，綜合看來，上海微電子完成22nm光刻機的研發(fā)對我國半導體產(chǎn)業(yè)及其芯片制造商來講，全是激勵人心的喜訊。上海微電子也為別的公司在開展技術提升時，開了一個好頭。